shinkuu真空鍍膜設備的原理及特點

本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外，樣品臺是浮動的，以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單，只需按下按鈕，沒有任何技巧。它很小，不占用太多空間。在桌子的一角活躍。

檢測原理

主要分成蒸發(fā)跟濺射兩種，需要鍍膜的被稱為基片跟基材，鍍的材料（金屬材料以金，銀，銅，鋅，鋁等，其中用的最多的是鋁）被稱為靶材。基片與靶材同樣在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或者原子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基材表面，通過成膜過程（散點-島狀結構-迷走結構-成狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材。并使表面組分以原子團或者離子形式被濺射出來，并且最終濺射在基材表面，經過成膜過程，最終形成薄膜。

原理示意圖

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